Semua produk
Media Filter Logam 1μm Untuk Pemurnian Gas Proses Semikonduktor --- Pembuatan Wafer Dengan Kontrol AMC
Hubungi saya untuk sampel dan kupon gratis.
ada apa:0086 18588475571
Wechat wechat: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Jika Anda memiliki kekhawatiran, kami menyediakan bantuan online 24 jam.
xDetail produk
| Panjang | 80-100um | Packing | flexible |
|---|---|---|---|
| Application | Semi-conductor Gas Filter/High Purity Gas Filters Solution | Bahan | Stainless Steel 316L/Hastelloy C22/C59/Nickel 200 |
| Diameter | 1UM/1.5UM/2UM |
Deskripsi Produk
Elemen Filter Logam 1μm (Skala Nano)untuk Pemurnian Gas Proses Semi-konduktor
Jenis produk: Serat pendek baja tahan karat 316L ultrafine
Diameter Serat: 1um/1.5um/2um tersedia
Panjang Potong: 80-100um
Komposisi Kimia Bahan Baku (Berat%)
|
Elemen |
C |
Si |
Mn
|
Ni
|
Cr
|
Mo
|
S
|
P
|
|
Standar
|
≤0.03
|
≤1.00
|
≤2.00
|
10~14
|
16~18
|
2~3
|
≤0.03
|
≤0.045
|
|
Nilai
|
0.028
|
0.56
|
0.5
|
10.85
|
16.97
|
2.1
|
0.003
|
0.027
|
Dalam manufaktur semikonduktor, menjaga kemurnian ultra-tinggi gas proses sangat penting untuk mencegah cacat dan memastikan hasil yang tinggi. 1μm media filter logam memainkan peran penting dalam pemurnian gas dengan menghilangkan kontaminan partikulat sekaligus berkontribusi pada pengendalian Kontaminasi Molekul Udara (AMC), yang sangat penting untuk fabrikasi wafer tingkat lanjut.
Fitur & Manfaat Utama
Filtrasi Efisiensi Tinggi (Retensi 1μm)
Menangkap partikel sub-mikron yang dapat menyebabkan cacat dalam proses fotolitografi, etsa, dan deposisi.
Mengurangi risiko kontaminasi permukaan wafer, meningkatkan hasil.
Secara Kimiawi Inert & Tahan Korosi
Terbuat dari kemurnian tinggi baja tahan karat (316L), nikel, atau paduan sinter untuk kompatibilitas dengan gas agresif (misalnya, HF, HCl, NH₃).
Tahan terhadap pelepasan gas, mencegah kontaminasi tambahan.
Kemampuan Pengendalian AMC
Beberapa filter logam canggih menggabungkan perlakuan permukaan atau pelapis (misalnya, pasivasi, electropolishing) untuk meminimalkan adsorpsi/desorpsi senyawa organik atau asam yang mudah menguap.
Membantu memenuhi persyaratan SEMI F21 AMC Kelas 1 untuk proses sensitif seperti litografi EUV.
Ketahanan Suhu & Tekanan Tinggi
Kinerja stabil dalam kondisi keras (hingga 500°C atau lebih tinggi untuk beberapa paduan).
Cocok untuk CVD, difusi, dan implantasi ion jalur gas.
Umur Layanan Panjang & Kemampuan Pembersihan
Dapat digunakan kembali setelah dibersihkan (metode ultrasonik, kimia, atau termal), mengurangi biaya kepemilikan.
Desain penurunan tekanan rendah untuk aliran gas yang hemat energi.
Aplikasi dalam Manufaktur Semikonduktor
Pengiriman gas kemurnian ultra-tinggi (UHP) (N₂, Ar, H₂, O₂, dll.)
Proses etsa & deposisi (CVD, PVD, ALD)
Fotolitografi (lingkungan EUV/DUV yang sensitif terhadap AMC)
Filtrasi gas curah & titik penggunaan (PoU)
Mengapa Filter Logam Lebih Unggul Daripada Alternatif?
Daya tahan superior vs. filter polimer (yang dapat rusak dan melepaskan partikel).
Tidak ada pelepasan serat tidak seperti filter HEPA/ULPA tradisional.
Mitigasi AMC yang lebih baik dibandingkan dengan filter partikulat standar.
Kepatuhan & Standar
SEMI F20 (Pengendalian Partikulat)
SEMI F21 (Klasifikasi AMC)
ISO 14644-1 (Standar Ruang Bersih)
Kesimpulan
Media filter logam 1μm adalah solusi yang kuat untuk pemurnian gas semikonduktor, menggabungkan filtrasi partikulat, pengendalian AMC, dan ketahanan kimia untuk memenuhi tuntutan ketat fabrikasi wafer tingkat lanjut.
Rekomendasi Produk
